在PVD技術(shù)下，用于制備薄膜材料的物質(zhì)，統稱(chēng)為PVD鍍膜材料。經(jīng)過(guò)多年發(fā)展，專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦電話(huà)，PVD技術(shù)已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜。②CVD技術(shù)CVD技術(shù)是在高溫下依靠化學(xué)反應、把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應生成薄膜材料的技術(shù)。PVD鍍膜材料產(chǎn)業(yè)鏈上下游關(guān)系2.PVD鍍膜材料下游太陽(yáng)能應用行業(yè)概況太陽(yáng)能光伏行業(yè)中，PVD鍍膜材料主要應用于太陽(yáng)能電池。按太陽(yáng)能電池的結構劃分，表面不銹鋼鍍鈦電話(huà)，可分為結晶硅和薄膜太陽(yáng)能電池二大族群。

具有摩擦系數較低，耐磨損，膜層應力小好等優(yōu)點(diǎn)。用途：潤滑涂層，成型模具，許昌不銹鋼鍍鈦電話(huà)，鋁合金等粘結性強材料沖壓模具。⑥ZrN：ZrN不含Ti和Cr的單成膜，有較高的耐熱性，涂層顏色艷麗，在加工鋁鈦合金時(shí)可有效減少切削瘤（積屑瘤）。⑦AL（L）:zui新劈裂電弧涂層，含Si納米復合涂層，極高抗熱性能，適合硬切削，真空不銹鋼鍍鈦電話(huà)，納米硬度4300Hv，納米厚度1~3μm。摩擦系數0.3。zui高應用溫1200℃。加工硬度可達65HRC。用途：特適合加工淬火、鋼淬火硬鋼、不銹鋼、沉淀硬化不銹鋼。⑧MDT：zui新劈裂電弧涂層，納米厚度1-3μm，加工硬度可達58HRC。用途：特適合加工不銹鋼、鈦合金、沉淀硬化不銹鋼、銅合金、鋁合金。

采用PVD涂鍍技術(shù)可以生產(chǎn)極薄的涂層且可以擴張到其他合金體系，因此具有更廣闊的應用價(jià)值。涂層厚度減半甚至到原來(lái)的1/3，對涂鍍板的焊接性能和成型性能會(huì )有很大的提高。更為重要的是，與傳統技術(shù)相比，PVD涂鍍技術(shù)不需要進(jìn)行yan塵和排放物的控制，因此，具有環(huán)保優(yōu)勢。采用新的PVD涂鍍技術(shù)，首先必須解決的問(wèn)題是，實(shí)現涂鍍工程的工業(yè)化規模生產(chǎn)，達到連續化和高速化涂鍍的要求。PVD（PhysicalVaporDepsition）鍍膜，是指利用物理手段實(shí)現物質(zhì)轉移，將原子或分子級新材料轉移到基材表面的過(guò)程。